對模具進行拋光的目的主要有兩個：

一（yī）、是增加塑料模（mó）具（jù）光亮度、美觀（guān）度；

二、是使模具更（gèng）容易脫模。

在進（jìn）行拋光時，一般先使（shǐ）用粗（cū）的油石對機械加工的模具型腔表麵（miàn）進行粗的打磨，打磨去機加刀具的刀痕，然後再（zài）使用細的油石打磨去粗油石打（dǎ）的（de）痕跡，然後再用細的砂紙對細油石打磨過（guò）的表麵再進行打磨，最後再使用拋光膏或研（yán）磨膏（gāo）對模具的（de）型腔表麵進行（háng）最後的精拋光（guāng）打磨，最後達（dá）到光亮如鏡的效果。

日常生（shēng）活中，我們常見的塑料模具拋光方式有六（liù）種：

1.機械拋（pāo）光

機械拋光是靠切削、材（cái）料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操（cāo）作為主，特殊零件（jiàn）如（rú）回轉（zhuǎn）體表麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質（zhì）量要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨（mó）具，在含有磨料（liào）的研拋液中，緊壓在工件被加工（gōng）表麵上，作高速旋轉（zhuǎn）運動。利（lì）用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗（cū）糙度，是各種（zhǒng）拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采（cǎi）用這種方法。

2.化學拋光

化學拋光是讓材料在（zài）化學介質中（zhōng）表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶（róng）解，從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效（xiào）率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配（pèi）製。化學拋光得到的表麵粗糙度（dù）一般為數10μm。

3.電（diàn）解（jiě）拋光

電解拋（pāo）光基本與化學拋光相同，即靠選擇性地溶解材料（liào）表麵微小凸（tū）出部分，使表麵光滑。與化學拋光相比，可（kě）以（yǐ）消除陰（yīn）極反應的影響，效果較好。電化學拋光過程分為兩步：

（1）宏觀平整。溶解產（chǎn）物向電解液中擴散，材料（liào）表麵幾何粗糙度下降，Ra>1μm；

（2）微光平整。陽極極化，表麵光亮度提高，Ra<1μm。

4.超聲波拋光

將（jiāng）工件放入磨料（liào）懸浮液中，並一起置（zhì）於超聲波（bō）場中，依靠超聲波的振動作用，使磨料（liào）在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力（lì）小，不會引起工件變形，但工裝（zhuāng）製作和安裝較困（kùn）難（nán）。

超聲波加（jiā）工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌溶液，使工件表（biǎo）麵溶解產物脫離，表麵附近的腐蝕或（huò）電解質均勻（yún）；超聲波在液體中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利於表麵光亮化。

5.流體拋光

流體拋光，是依靠高速流（liú）動（dòng）的液體及其攜帶（dài）的磨粒（lì）衝刷工件表麵達到拋（pāo）光的目的。常用方法有：磨料噴（pēn）射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。

流體動（dòng）力研磨（mó）是由液壓（yā）驅動，使（shǐ）攜帶磨粒的液體介質高速往複（fù）流過工件表麵。介質主要采用在較低壓力下（xià）流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上（shàng）磨料製成，磨（mó）料（liào）可采用碳化矽粉末。

6.磁（cí）研磨拋光

磁研磨拋光，是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條（tiáo）件（jiàn）好。采用合適的（de）磨料，表麵粗糙度可以（yǐ）達到Ra0.1μm。

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